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아트 디렉티드 프롬프트 시스템 분석

인포그래픽은 양식화되고 반사적인 'Z' 모양을 주요 시각으로 사용하여 "아트 디렉티드 프롬프트 시스템"을 제시합니다. 이 구성은 깔끔하고 미니멀리스트적인 디자인에 분석 그리드, 픽셀 슬라이스 해체, 기술적 주석을 특징으로 하며, 시각적 요소에 대한 상세한 분석을 제공합니다.

프롬프트

[SOURCE MODE = ATTACHED IMAGE] 인식 보존 주석 처리된 픽셀-슬라이스 해체 시스템을 사용하여 16:9 실험적인 그래픽 구성을 만듭니다. SOURCE PRIORITY 원본 소스가 지배적인 마스터 레이어입니다. 분석 그리드, 주석 및 픽셀-스트레치 효과는 소스 주변 및 선택적으로 소스 전체에 적용되는 보조 오버레이입니다. 별도의 그리드 조각으로 피사체를 재구성하지 마십시오. 소스를 분리된 자르기 콜라주로 만들지 마십시오. 뷰어가 분석 왜곡 시스템을 알아차리기 전에 완전한 원본 피사체가 첫눈에 즉시 인식 가능해야 합니다. [SOURCE MODE = ATTACHED IMAGE]인 경우, 업로드된 이미지를 유일한 시각적 소스로 사용하십시오. 실제 피사체, 실루엣, 비율, 포즈, 방향, 원근, 내부 기하학적 구조, 색상, 재료 외관 및 주요 인식 가능한 특징을 보존하십시오. [SOURCE MODE = LOGO]인 경우, [LOGO NAME]의 정품 공식 독립형 기호를 자동으로 식별하십시오. 정식 실루엣, 비율, 곡선, 선 관계, 카운터폼, 내부 네거티브 공간, 교차점 및 구성 요소 간격을 보존하십시오. 마크를 재설계, 단순화 또는 재해석하지 마십시오. RECOGNIZABILITY LOCK 가시적인 소스의 약 60~75%를 연속적이고 왜곡되지 않은 이미지로 보존하십시오. 적어도 하나의 큰 중단 없는 영역은 원본 공간 배열의 대부분을 보여야 합니다. 뷰어는 노력 없이 전체 소스를 정신적으로 재구성할 수 있어야 합니다. 모든 ID-중요 기하학적 구조를 파괴적인 왜곡으로부터 보호하십시오: — 외부 실루엣; — 주요 접합부; — 독특한 모서리와 곡선; — 중앙 교차점; — 네거티브 공간; — 주요 방향 축; — 부분 간의 정의적인 내부 관계. 이러한 중요한 인식 앵커에 과도한 픽셀 스트레칭을 적용하지 마십시오. 왜곡이 인식을 약화시킬 경우, 소스 기하학적 구조를 수정하기보다 왜곡을 줄이십시오. 소스는 그래픽 시스템 아래에서 공간적으로 일관성을 유지해야 합니다. CORE VISUAL SYSTEM 소스 주변 및 부분적으로 소스를 통과하는 약 18~30개의 직사각형 분석 셀로 구성된 불규칙한 건축 그리드를 구축하십시오. 그리드는 실험적인 과학 이미지 분석 인터페이스, 데이터셋 주석 시트 및 손상된 편집 레이아웃이 하나의 시스템으로 통합된 것처럼 느껴져야 합니다. 소스는 주인공으로 남아 있습니다. 그리드는 이미 완성된 이미지 위에 놓인 레이어처럼 작동해야 하며, 이미지를 재구성하는 데 사용되는 구조처럼 작동해서는 안 됩니다. 그리드가 주변의 네거티브 공간으로 확장되고, 선택된 위치에서 소스와 교차하며, 소스에서 작은 분석 샘플을 분리할 수 있도록 허용하십시오. 몇 개의 큰 앵커 셀, 여러 개의 중간 셀 및 비대칭 계단식 관계를 가진 좁은 마이크로 셀을 사용하십시오. 대부분의 셀은 경계를 공유하거나 구조적으로 연결되어야 합니다. 균일한 체스판을 사용하지 마십시오. 그리드 분할로 전체 소스를 덮지 마십시오. 소스의 모든 보이는 부분을 별도의 직사각형으로 강제하지 마십시오. SOURCE CONTINUITY 그리드 선이 왜곡되지 않은 소스를 가로지를 때, 아래의 이미지는 인접한 셀을 가로질러 원활하게 이어져야 합니다. 그리드 경계가 자동으로 새로운 자르기를 생성해서는 안 됩니다. 동일한 원본 개체는 한 셀에서 다음 셀로 위치적으로 정렬된 상태를 유지해야 합니다. 인접한 소스 조각을 이동, 크기 조정, 회전 또는 독립적으로 재배치하지 마십시오. 의도적으로 작은 분석 샘플로 사용되지 않는 한 소스의 독특한 부분을 복제하지 마십시오. 그리드는 그래픽 분할이지 물리적 분할이 아닙니다. PIXEL-SLICE DECONSTRUCTION 선택된 보조 셀에만 픽셀 스트레칭을 적용하십시오. 그리드 셀의 약 20~35%를 강한 왜곡에 사용하십시오. 소스의 근처 영역에서 매우 좁은 스트립을 직접 샘플링하여 선택된 셀에 걸쳐 늘립니다. 생성: — 수직 소스 슬라이스를 수직 스펙트럼 밴드로 확장; — 수평 소스 슬라이스를 수평 밴드로 확장; — 압축된 로컬 색상 프로필; — 길게 늘어진 질감 줄무늬; — 반복된 가장자리 색상 정보; — 소스에서 직접 파생된 부드러운 래스터 번짐 필드. 왜곡된 샘플은 추출된 정확한 인접 영역과 시각적으로 관련되어 있어야 합니다. 가능한 한, 늘려진 셀을 분석하는 온전한 영역 바로 옆에 배치하여 소스와 샘플 사이에 명확한 시각적 관계를 만드십시오. 소스의 큰 인식 가능한 부분을 왜곡으로 대체하지 마십시오. 전체 개체를 늘리지 마십시오. 왜곡된 셀이 원본 소스보다 시각적으로 더 지배적이 되도록 하지 마십시오. IMAGE CELL HIERARCHY 세 가지 명확한 셀 유형을 사용하십시오: 1. PRIMARY SOURCE CELLS 원본 소스의 연속적인 왜곡되지 않은 부분을 포함하는 큰 셀. 이것이 인식 가능성의 대부분을 담당합니다. 2. ANALYTICAL SAMPLE CELLS 픽셀-스트레치되거나 분리된 소스 샘플을 포함하는 작은 셀. 3. EMPTY INFORMATION CELLS 레이블, 인덱스 번호 또는 아무것도 포함하지 않는 배경 전용 셀. 기본 소스 셀이 면적상 구성을 지배해야 합니다. 분석 샘플 셀은 소스를 둘러싼 추출된 측정값처럼 작동해야 합니다. 빈 셀은 숨 쉴 공간을 만들고 구성이 밀집된 모자이크가 되는 것을 방지합니다. ANNOTATION SYSTEM 선택된 셀에 왼쪽 상단 모서리 근처에 위치한 작은 기술 주석을 부여하십시오. 실제 소스에서 간결한 의미론적 레이블을 자동으로 파생하십시오: SUBJECT SILHOUETTE CURVATURE EDGE JUNCTION REFLECTION CONTOUR NEGATIVE SPACE MATERIAL GRADIENT STRUCTURE COLOR FIELD VERTICAL SAMPLE HORIZONTAL SAMPLE INTERSECTION PROFILE 대문자 압축 그로테스크 또는 모노스페이스 기술 서체를 사용하십시오. 서체는 밝은 배경에는 검정 또는 거의 검정이어야 하며 어두운 배경에는 미묘하게 적응해야 합니다. 모든 레이블을 매우 작게 유지하십시오. 레이블을 1, 2, 3, 4...와 같은 순차적 인덱스 번호와 짝지어 사용하십시오. 때때로 작은 화살표, 대시 또는 기술 기호를 사용하십시오. 텍스트가 헤드라인이 되거나 소스와 시각적으로 경쟁하도록 허용하지 마십시오. GRID GRAPHICS 극도로 얇은 중성 회색 또는 거의 검정색의 가는 선을 사용하십시오. 테두리를 정밀하고 평평하며 도해적으로 유지하십시오. 그리드 선은 소스를 가로지를 수 있지만, 그리드 선을 가로지르는 것이 자동으로 이미지를 왜곡하거나 재배치해서는 안 됩니다. 일부 셀이 비어 있는 배경 공간으로 완전히 확장되도록 허용하십시오. 전체적인 발자국은 비대칭적이고 건축적이어야 하며, 때때로 계단식 돌출부와 고립된 좁은 분석 열을 포함해야 합니다. BACKGROUND + NEGATIVE SPACE [BACKGROUND COLOR]를 주변 필드 및 빈 셀 색상으로 사용하십시오. 전체 캔버스의 약 40~60%를 시각적으로 조용하게 유지하십시오. 넓은 영역의 손대지 않은 배경이 필수적입니다. 전체 소스를 동일하게 밀집된 셀로 둘러싸지 마십시오. 두세 개의 국부적인 영역에 더 많은 분석 활동을 집중시키고 다른 영역은 차분하게 유지하십시오. COMPOSITION 정사각형 1:1 캔버스. 원본 소스 방향과 주요 구성 균형을 보존하십시오. 피사체가 즉시 인식될 수 있도록 충분히 크게 유지

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